G-33D4型高精密光刻機

產(chǎn)品介紹：

設(shè)備概述

本設(shè)備廣泛用于各大、中、小型企業(yè)、大專院校、科研單位，主要用于集成電路、半導(dǎo)體元器件、光電子器件、光學(xué)器件研制和生產(chǎn),由于本機找平機構(gòu)**，找平力小，使本機不僅適合硅片、玻璃片、陶瓷片的曝光，而且也適合易碎片如砷化鉀、磷化銦等基片的曝光, 這是一臺雙面對準(zhǔn)單面曝光的光刻機,它不僅能完成普通光刻機的任何工作,同時還是一臺檢查雙面對準(zhǔn)精度的檢查儀。

主要構(gòu)成LED專用曝光頭、

  主要功能特點

（1）4″LED紫外專用曝光頭

（2）曝光面積：110mm×110mm；

（3）曝光強度：0～30mw/cm2可調(diào)；

（4）紫外光束角：≤3°；

（5）照明不均勻性： ≤3%；

（6）紫外光源壽命：≥2萬小時；

（7）采用電子快門；

（8）套刻精度：1μm

（9）觀察系統(tǒng)為上下各兩個無級變倍、高分辨率單筒顯微鏡上裝四個CCD攝像頭通過視屏線連接計算機到19″高清液晶顯視屏上。

a、 單筒顯微鏡為1.6X～10X連續(xù)變倍顯微鏡；

b、CCD攝像機靶面對角線尺寸為：1/3″；

c、 采用19″液晶監(jiān)視器，其數(shù)字放大倍率為19÷1/3=57倍；

d、觀察系統(tǒng)放大倍數(shù)為：1.6×57=91倍（*小倍數(shù)）

10×57=570倍（*大倍數(shù)）；