G-33E4型高精密光刻機

產(chǎn)品介紹：

設(shè)備概述

本設(shè)備廣泛用于各大、中、小型企業(yè)、大專院校、科研單位，主要用于集成電路、半導(dǎo)體元器件、光電子器件、光學(xué)器件研制和生產(chǎn),由于本機找平機構(gòu)**，找平力小，使本機不僅適合硅片、玻璃片、陶瓷片的曝光，而且也適合易碎片如砷化鉀、磷化銦等基片的曝光, 這是一臺雙面對準(zhǔn)單面曝光的光刻機,它不僅能完成普通光刻機的任何工作,同時還是一臺檢查雙面對準(zhǔn)精度的檢查儀。

主要構(gòu)成

曝光頭及部件圖

CCD顯微系統(tǒng)|X、Y、Q對準(zhǔn)工作臺

適用于110mm×110mm以下、厚度(包括非圓形基片

采用版不動，片動的下置式三層導(dǎo)軌對準(zhǔn)方式，使導(dǎo)軌自重和受力方向保持一致，自動消除間隙；承片臺升降采用無間隙滾珠直進導(dǎo)軌、氣動式

4.可靠性高
采用PLC控制、進口（日本產(chǎn)）電磁閥和按鈕、獨特的氣動系統(tǒng)、真空管路系統(tǒng)和經(jīng)過精密機械制造工藝加工的零件，使本機運行具有非常高的可靠性且操作、維護、維修簡便。

5. 特設(shè)功能
除標(biāo)準(zhǔn)承片臺外，我公司還可以為用戶定制專用承片臺，來解決非圓形基片、碎片和底面不平的基片造成的版片分離不開所引起的版片無法對準(zhǔn)的問題。

（1）高均勻蠅眼曝光頭。

a.采用350W直流高壓球形汞燈；

b.曝光面積：110mm×110mm；

c.曝光強度：≥20mW/cm2汞燈（進口）；

d.光源平行性：≤3.5°；

e.照明不均勻性： ±3%（ Φ100mm范圍）；

g.套刻精度：1μm

（2）觀察系統(tǒng)為上下各兩個無級變倍、高分辨率單筒顯微鏡上裝四個CCD攝像頭通過視屏線連接計算機到19″高清液晶顯視屏上。

a. 單筒顯微鏡為1.6X～10X連續(xù)變倍顯微鏡；

b. CCD攝像機靶面對角線尺寸為：1/3″；

c. 采用19″液晶監(jiān)視器，其數(shù)字放大倍率為19÷1/3=57倍；

d. 觀察系統(tǒng)放大倍數(shù)為：1.6×57=91倍（*小倍數(shù)）

10×57=570倍（*大倍數(shù)）；