G-43Y6型高精密單面光刻機

產(chǎn)品介紹：

設備概述:

本設備是我公司根據(jù)市場需求研發(fā)的產(chǎn)品，通常情況下基片尺寸為：Φ6"，對被光刻基片的外形、厚度要求較低，可對多種材料的基片進行光刻。它特別適用進行一次光刻的產(chǎn)品,可制作聲表面器件、可控硅、小液晶顯示器、傳感器、二極管、園光柵、編碼盤等。按用戶要求可提供圓形承片臺或方形承片臺,不管哪一種承片臺，都能實現(xiàn)“真空密著”曝光,加之光均勻性好，所以大大提高光刻質(zhì)量。 <span style="font-family:;" "="">
主要由防震工作臺、高均勻性6"蠅眼曝光頭、氣動系統(tǒng)、電氣控制系統(tǒng)、真空管路系統(tǒng)、直聯(lián)式真空泵及附件箱等組成。

  適用于<span style="font-size:16px;font-family:;" "="">Φ6"以下，厚度(包括非圓形基片
  2. 結(jié)構穩(wěn)定

有真空掩膜版架、真空片吸盤。

本設備操作簡單，調(diào)試、維護、修理等都非常簡便

采用進口電磁閥、按鈕、定時器；采用獨特的氣動系統(tǒng)、真空管路系統(tǒng)和精密的機械零件，使本機具有非常高的可靠性。

除標準承片臺外，還可以為用戶定制專用承片臺，來解決非圓形基片、碎片和底面不平的基片造成的版片分離不開所引起的版片無法對準的問題<span style="font-size:12.0pt;font-family:;" "="">

主要技術參數(shù)：

1、操作方式：手動。

2、曝光模式：接觸式曝光。

3、曝光面積曝光面積：150mm×150mm。

4、紫外光源：g線（436nm）和i線（365nm）

5、實現(xiàn)“真空密著”曝光，但基片厚度≤2mm。

6、分辨率：Φ100mm范圍內(nèi)≤2um

7、照明不均勻性： ±3%（ Φ100mm范圍）；±5%（ Φ150mm范圍）；

8、曝光光源：350W汞燈（進口）；

9、曝光強度：≤20mW/ cm2

10、光源平行性：≤3.5°；

11、樣品尺寸：Φ150mm。